%0 Journal Article %T اثر میکروتوپوگرافی سطحی بر ترشوندگی فیلم پلی‌دی‌متیل‌سیلوکسان: ابرآب‌گریزی %J مجله علوم و تکنولوژی پلیمر %I پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی ایران با همکاری انجمن پلیمر ایران %Z 10163255 %A خاک‌وند, شایسته %A جلیلی, کیومرث %A حسن‌پور, فاطمه %A عباسی, فرهنگ %D 2020 %\ 04/20/2020 %V 33 %N 1 %P 51-62 %! اثر میکروتوپوگرافی سطحی بر ترشوندگی فیلم پلی‌دی‌متیل‌سیلوکسان: ابرآب‌گریزی %K لاستیک PDMS %K ابرآب‌گریزی %K میکروتوپوگرافی سطحی %K لیتوگرافی نرم %K حکاکی یون‌واکنشی عمیق %R 10.22063/jipst.2020.1720 %X فرضیه: پیشرفت‌های اخیر در میکرو و نانوفناوری امکان ایجاد سطوح میکرو یا نانوساختار کاربردی با ویژگی میکرو و نانوتوپوگرافی سطحی را فراهم می‌کند که می‌توانند خواص چسبندگی کمی را نشان دهند. دسته بسیار مهمی از این ساختارها، سطوح ابرآب‌گریز بوده که به‌شدت دافع آب هستند. در کار حاضر، اثرهای میکروتوپوگرافی سطحی بر رفتار ترشوندگی فیلم لاستیک پلی‌دی‌متیل‌سیلوکسان (PDMS) با هدف ایجاد سطح ابرآب‌گریز بررسی شده است.روش‌ها: آرایه‌هایی از الگوی میکروستون‌ها با الهام از ساختارهای زیستی موجود در طبیعت با استفاده از روش میکرولیتوگرافی نرم و با نسبت‌های مختلف از گام به پهنا روی سطح PDMS ایجاد شد. به همین دلیل قالب‌هایی با استفاده از روش‌های میکروساخت و لیتوگرافی نوری ساخته شد. الگوی قالب‌ها بر اساس طرح ستون‌های وارونه بوده و با استفاده از حکاکی ناهمسانگرد سطح ویفر سیلیکون (روش حکاکی یون واکنشی عمیق، DRIE) به دو صورت قالب سیلیکونی با نسبت منظر بزرگ و قالب نورمقاوم با نسبت منظر کوچک، تهیه شد. یافته‌ها: میکروستون‌های ساخته‌شده روی قالب سیلیکون دارای موج‌های نانومقیاسی بودند که ناشی از مراحل چندگانه حکاکی و اثرناپذیرسازی دیواره‌های جانبی در فرایند DRIE است. مهرهای لاستیکی نسخه‌های عینی از قالب بوده (نسخه‌های منفی) و از رزین PDMS قالب‌گیری شدند. مهرهای سیلیکونی آرایه‌های منظمی از برخی ویژگی‌های برجسته بودند که امکان انتقال الگو روی زیرلایه هدف را طی فرایند چاپ میکروتماسی فراهم می‌آورد. شکل‌دهی نسبت‌های متعدد گام میان ستون‌ها به پهنای آن‌ها برای بهینه‌سازی ارتباط بین توپوگرافی سطحی و رفتار ترشوندگی فیلم PDMS با استفاده از اندازه‌گیری‌های زاویه تماس ایستا آب انجام شد. در پژوهش حاضر، این ساختارها به خواص آب‌گریزی لاستیک سیلیکون ارتباط داده شد و برای الگوهای مختلف سطحی، انتقال از حالت مدل مرکب (Cassie-Baxter) به مدل تر (Wenzel) شناسایی شد. مشاهده شد، زاویه تماس وابسته به نوع شکل‌دهی میکروستون‌ها در انتقال از مدل Cassie-Baxter به مدل Wenzel در اندازه گام 60mm~ قرار می‌گیرد.    %U http://jips.ippi.ac.ir/article_1720_983bf91c7a4c2af2ca83cb90e7b9fb78.pdf